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金屬電鍍層膜厚分析儀
金屬電鍍層膜厚分析儀

金屬電鍍層膜厚分析儀:鍍層膜厚是電鍍產(chǎn)品的重要技術(shù)指標(biāo),關(guān)系到產(chǎn)品的質(zhì)量以及生產(chǎn)成本。 Thick800A鍍層測(cè)厚儀是天瑞集多年的經(jīng)驗(yàn),專(zhuān)門(mén)研發(fā)用于鍍層行業(yè)的一款膜厚測(cè)試儀器,配備移動(dòng)平臺(tái),可全自動(dòng)軟件操作,并進(jìn)行多點(diǎn)測(cè)試,檢測(cè)結(jié)果更加精準(zhǔn)。

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鍍層厚度檢測(cè)儀,膜厚儀
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鍍層厚度檢測(cè)儀,膜厚儀:Think600鍍層測(cè)厚儀使用高效而實(shí)用的正比計(jì)數(shù)盒和電制冷探測(cè)器,以實(shí)在的價(jià)格定位滿(mǎn)足鍍層厚度測(cè)量的要求,且全新的更具有現(xiàn)代感的外形、結(jié)構(gòu)及色彩設(shè)計(jì),使儀器操作更人性化、更方便。

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膜厚儀,鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀
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膜厚儀,鍍層測(cè)厚檢測(cè)儀:若一個(gè)電子由軌道游離,則其他能階的電子會(huì)自然的跳至他的位置,以達(dá)到穩(wěn)定的狀態(tài),此種不同能階轉(zhuǎn)換的過(guò)程可釋放出能量,即X-射線(xiàn)。因?yàn)楦髟氐拿恳粋€(gè)原子的能階均不同,所以每一元素軌道間的能階差也不同相同。

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金屬電鍍層厚度分析儀
金屬電鍍層厚度分析儀

金屬電鍍層厚度分析儀:鍍層測(cè)厚儀是將X射線(xiàn)照射在樣品上,通過(guò)從樣品上反射出來(lái)的第二次X射線(xiàn)的強(qiáng)度來(lái)。測(cè)量鍍層等金屬薄膜的厚度,因?yàn)闆](méi)有接觸到樣品且照射在樣品上的X射線(xiàn)只有45-75W左右,所以不會(huì)對(duì)樣品造成損壞。同時(shí),測(cè)量的也可以在10秒到幾分鐘內(nèi)完成。測(cè)量的對(duì)象包括涂層、鍍層、敷層、貼層、化學(xué)生成膜等(在有關(guān)國(guó)家和標(biāo)準(zhǔn)中稱(chēng)為覆層(coating))。

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X射線(xiàn)無(wú)損鍍層厚度測(cè)試儀
X射線(xiàn)無(wú)損鍍層厚度測(cè)試儀

X射線(xiàn)無(wú)損鍍層厚度測(cè)試儀:X射線(xiàn)熒光就是被分析樣品在X射線(xiàn)照射下發(fā)出的X射線(xiàn),它包含了被分析樣品化學(xué)組成的信息,通過(guò)對(duì)X射線(xiàn)熒光的分析確定被測(cè)樣品中各組分含量的儀器就是X射線(xiàn)熒光分析儀。由原子物理學(xué)的知識(shí),對(duì)每一種化學(xué)元素的原子來(lái)說(shuō),都有其特定的能級(jí)結(jié)構(gòu),其核外電子都以其*的能量在各自的固定軌道上運(yùn)行。內(nèi)層電子在足夠能量的X射線(xiàn)照射下脫離原子的束縛,成為自由電子,這時(shí)原子被激發(fā)了,

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無(wú)損電鍍層厚度測(cè)試儀
無(wú)損電鍍層厚度測(cè)試儀

無(wú)損電鍍層厚度測(cè)試儀:鍍鎳器件是比較常見(jiàn)的電鍍器件,其鎳鍍層在保護(hù)銅基體免受氧化同時(shí)還能起到美觀(guān)的作用。這里以測(cè)試客戶(hù)的一件銅鍍鎳樣品為例說(shuō)明此款儀器的測(cè)試效果。

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鍍層厚度測(cè)試儀,測(cè)厚儀
鍍層厚度測(cè)試儀,測(cè)厚儀

鍍層厚度測(cè)試儀,測(cè)厚儀:滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求、φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求、高精度移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm、采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度、定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊、鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)、高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)、良好的射線(xiàn)屏蔽作用、測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)

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